高低溫一體恒溫槽MGD40-20為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應用于-40℃~180℃(高至溫度195℃)石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用
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